化學試劑純度規范級知識總結

化學試劑純度

試劑的規格基本上按純度（雜質量）劃分，包括高純度、光譜純度、標準、光譜純度、高純度、分析和化學純度。主管部門發布的主要質量指標有三項：優質純度、分級純度和化學純度。

（1） GR：保證試劑，也稱為一級產品或保證試劑，為99.8%。該試劑純度高，雜質含量低。它適用于重要的分析工作和科學研究工作。使用綠色瓶子標簽。

（2） 分析純度（AR）也稱為二級試劑，純度高達99.7%，略低于高純度。它適用于重要分析和一般研究工作。使用紅色瓶子標簽。

（3） 化學純度（CP），也稱為三級試劑，≥ 純度與分析純度相差較大，適用于工業、礦山和學校的一般分析工作。使用藍色（深藍色）標簽。

（4） LR：實驗室試劑，也稱四級試劑。

除上述四個層面外，還有：

Pt：一級試劑：專門用作對照品，可直接配制標準溶液。

SP：光譜純：表示光譜純。然而，由于有機物不能在光譜中顯示，有時主成分低于99.9%，因此在使用時必須注意它，特別是當它用作標準物質時，我們必須對其進行校準。

純度遠高于優等品的試劑稱為高純度試劑(≥ 99.99%). 高純度試劑是在普通試劑的基礎上發展起來的。它是通過特殊方法為特殊目的生產的純度高的試劑。其雜質含量比優質試劑低2、3、4個數量級以上。因此，高純度試劑特別適用于某些痕量分析，而通常的高純度試劑不能滿足這種精密分析的要求。目前，除少數產品（如高純度硼酸、高純度冰乙酸、高純度氫氟酸等）制定標準外，大多數高純度試劑的質量標準并不統一，有高純度、超純、光譜純度等不同名稱，等。根據高純度試劑的不同行業特殊范圍，可分為以下類型：

（1） 光學和電子用高純度化學品，即電子級試劑。

（2） 金屬氧化物半導體是一種用于電子工業的特殊高純度化學品，即up-s級或MOS試劑（閱讀：moss試劑）。一般用于半導體、電子管等方面，雜質的至大含量為0.01-10ppm，有的可以降到ppb級。金屬雜質含量小于1ppb，粉塵水平達到0-2ppb，適用于0.35-0.8微米集成電路加工工藝。

（3） 單晶生產用高純度化學品。

（4） 光纖用高純度化學品。

此外，還有儀器試劑、超純試劑（雜質含量低于1/100萬～1/100萬）、特殊高純度有機材料等。

（5） ICP質量純級試劑：大部分雜質元素含量小于0.1ppb，適合日常ICP質量分析。

（6） ICP純級試劑：大部分雜質元素含量小于1ppb，適用于ICP的日常分析。

（7） AA純級試劑：大多數雜質元素含量低于10 ppb，適用于原子吸收光譜儀（AA）的日常分析。